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在真空蒸鍍與光學鍍膜工藝中，真空度的精確測量與控制直接決定薄膜的純度、附著力與光學性能。從抽真空初期的粗真空，到鍍膜過程中的高真空，再到可能涉及的超高真空環境，傳統方案往往需要多臺真空計切換使用，不僅增加設備成本，也帶來配線復雜、切換操作繁瑣等問題。東京電子（TOEL）推出的 CC-10 復合真空計，正是針對這一痛點設計的寬量程一體化解決方案。
真空蒸鍍與光學鍍膜通常涉及以下真空區間：
粗抽階段：從大氣壓抽至 1Pa 左右，需要精確監測壓力下降過程；
高真空階段：1Pa 至 10??Pa，是蒸鍍與鍍膜的主要工作區間；
超高真空階段：部分精密光學鍍膜或特殊工藝可能要求 10??Pa 級別。
傳統做法是分別配置晶體規（用于粗真空）和冷陰極規或離子規（用于高真空），再搭配獨立的控制器。這種方式存在三個明顯問題：設備成本高、占用空間大、切換操作復雜。CC-10 的設計邏輯，正是用一臺設備覆蓋全部區間。
CC-10 的測量范圍為 1.0×10??Pa ～ 1.0×10?Pa，橫跨12個數量級。其內部集成晶體規與冷陰極規：大氣壓至1Pa由晶體規負責，1Pa至10??Pa由冷陰極規接管，兩者自動切換，無需人工干預。
對鍍膜工藝而言，這意味著從抽真空開始到鍍膜完成，操作人員可以在同一臺設備上連續觀察壓力變化，無需在不同真空計之間切換或等待切換穩定。這對于需要精確控制抽氣速率和鍍膜起鍍點的工藝尤為重要。
許多鍍膜設備在粗抽階段需要準確判斷壓力是否已達到某一閾值（例如是否可以開啟高真空閥）。CC-10 采用的晶體規能夠直接檢測大氣壓，在粗真空區域提供可靠讀數，避免因粗抽階段測量不準而導致的閥門誤操作或抽氣效率下降。
CC-10 將傳感器、電路部、顯示屏集成于一體，屬于變送器型真空計，無需單獨的控制器。對于鍍膜設備制造商而言，這意味著：
電控柜內不再需要為真空計控制器預留空間；
傳感器與控制器之間的配線大幅減少；
設備整體設計更緊湊，尤其適合多腔體鍍膜產線。
頁面明確將“省配線、省空間"列為產品核心優勢之一，這正是鍍膜設備集成中的實際需求。
鍍膜工藝中，真空計長期處于蒸鍍材料氣氛中，傳感器污染是常見問題。CC-10 的冷陰極規結構堅固，且傳感器清潔簡便，采用簡單結構設計，便于維護人員定期清理。這有助于延長設備使用壽命，降低停機時間。
CC-10 配備3點設定點（1點獨立、2點共común），接點容量為 DC50V、0.12A，可直接用于系統控制，例如觸發閥門開關或鍍膜起始信號。同時標配 RS-485 數字通信，支持模擬輸出（10V F.S. 對數或復合輸出），便于接入鍍膜設備的 PLC 或上位機系統。
此外，產品符合 CE、RoHS 標準，對于出口歐洲的鍍膜設備制造商而言，這是一個不可忽視的合規優勢。
| 工藝階段 | 真空區間 | CC-10 的作用 |
|---|---|---|
| 粗抽 | 大氣壓 ～ 1Pa | 晶體規精確監測，判斷高真空閥開啟時機 |
| 高真空抽氣 | 1Pa ～ 10??Pa | 冷陰極規接管，連續顯示壓力下降曲線 |
| 鍍膜過程 | 10?3Pa ～ 10??Pa | 實時壓力監控，配合設定點控制鍍膜起始 |
| 超高真空工藝 | 10??Pa ～ 10??Pa | 冷陰極規覆蓋，滿足精密光學鍍膜需求 |
| 設備維護 | — | 傳感器可清潔，烘烤溫度最高150°C |
頁面推薦的“真空蒸著裝置"和“光學薄膜生成裝置"正是 CC-10 最直接的應用場景。無論是間歇式蒸鍍設備還是連續式光學鍍膜產線，CC-10 都能以單臺設備完成全流程壓力測量。
法蘭選擇：提供 NW25 和 ICF70 兩種法蘭，需根據設備接口匹配；
電源：DC 22～26V，最大8W，若使用交流電需另配 AC 適配器（選件）；
烘烤：最高150°C，但必須拆下電路部分，否則可能損壞電子元件；
工作溫度：0～50°C，需確保設備環境溫度在此范圍內；
重量：NW25 約840g，ICF70 約1060g，安裝時需考慮支撐。
CC-10 的核心價值，在于用一臺一體化設備替代了傳統“晶體規+冷陰極規+獨立控制器"的組合，實現了從大氣壓到超高真空的連續、自動、免切換測量。對于真空蒸鍍與光學鍍膜領域而言，它同時解決了測量連續性、設備空間、配線復雜度、維護便利性四個實際問題。在鍍膜設備日益追求緊湊化、智能化、高可靠性的趨勢下，CC-10 這類寬量程復合真空計，正在成為越來越多設備制造商和工藝工程師的優先選擇。
